さまざまなサンプルをカバーする汎用モデルです。 μm台の公差管理を高速/高精度/使いやすく行えます。 専用光学系とTTLレーザーAFを標準搭載。 サンプルサイズに応じてストロークの異なる3モデルをラインアップしています。 多様な測定ニーズに対して高速·高精度な測定を実現します。

NEXIVシリーズ最高の測定精度を実現。 半導体部品や精密金型など、より厳しい品質管理を要求される場面で威力を発揮します。 TTLレーザーAFで高速・高精度な高さ測定とサンプルの表面形状取得が可能です。 3種類の入射角が選択できる8方向リング照明を使用して、エッジ検出が難しいサンプルでも安定した自動測定を行うことができます。

広視野と長作動距離で、高さや段差のあるサンプルの測定に適したエントリーモデルです。 5段階10倍ズームにより、広視野から細部までの確認が可能です。 最大13.3×10㎜の広視野（0.35×観察時）で、測定位置の確認が容易に行えます。 タッチプローブの装着も可能で、さまざまな検査や品質管理に威力を発揮します。

NEXIV VMF-K シリーズは、明視野とコンフォーカルの2つの光学系を搭載し、 高精度な二次元測定と視野内一括の二次元・高さ測定を同時に行えるビデオ測定システムです。光学系の刷新により高さ測定のスキャン速度が向上し、従来機（VMZ-K）比で約1.5倍の測定スループットを実現。さらに、最先端の微細寸法測定ニーズに応えるため、高倍率45倍モデルを新たにラインアップに加え、プローブカードやウェハレベルパッケージなど半導体関連の多様なサンプル測定に対応します。